显卡芯片，需要更加先进的光刻机！ 因此，龙腾还是需要先从光刻机入手！ 之前，他已经把浸润式深紫外光刻机（即duv）提前搞了出来。 如今，他需要把浸润式极紫外光刻机（即euv）提前搞出来！ 深紫外光刻技术与极紫外光刻技术最大的区别就是光源不同！ 深紫外光刻机采用的是深紫外光源。 而极紫外光刻机采用的是极紫外光源。 极紫外光源对技术的要求更高。 不过，对于龙腾来说，攻克极紫外光源技术，难道并不是很大。 毕竟，他已经掌握了大量的各种光源技术。 他只需要通过反复实验，找到制造出极紫外光源的方法即可！ 通过一段时间的研究，他终于找到了制造出极紫外光源...